，材料是均勻地從樣品表面的氬離子流的流。濺射的材料進(jìn)行霧化和低壓等離子體放電激發(fā)的，遠(yuǎn)離樣品表面。該技術(shù)的gds850重*加強(qiáng)過程控制和研發(fā)實(shí)驗(yàn)室的性能研究。它提供了高度準(zhǔn)確的散裝分析，以及成分的深度分析涂層的分析和表面處理。該儀器提供了一個(gè)光譜范圍從120到800納米，可配置多達(dá)58個(gè)通道。
　　產(chǎn)品特點(diǎn)：
　　濺射與激發(fā)分離
　　具有寬動(dòng)態(tài)范圍的線性校正曲線
　　**化自吸收和材料再沉積
　　幾乎完全原子線激發(fā)
　　較少和較窄的發(fā)射線減少干擾
　　冶金歷史
　　校準(zhǔn)所需的標(biāo)準(zhǔn)
　　低氬氣消耗
　　樣品自動(dòng)清洗。